一、水基清洗液

• • 堿性水基清洗液：對于化工設(shè)備上的油脂、蛋白質(zhì)、碳水化合物等污垢有良好的清洗效果。它通過皂化、乳化、分散等作用將污垢去除。適用于大多數(shù)金屬材質(zhì)的化工設(shè)備，但對于一些易被堿腐蝕的金屬如鋁、鋅等，需要控制清洗液的濃度和清洗時間。常見的成分有氫氧化鈉、碳酸鈉、硅酸鈉等，廣泛應用于石油、化工、制藥等行業(yè)的設(shè)備清洗。
  • 酸性水基清洗液：主要用于去除設(shè)備表面的水垢、銹跡等無機污垢。例如，鹽酸、硫酸、硝酸等強酸可與水垢中的碳酸鈣、碳酸鎂等成分發(fā)生化學反應，將其溶解去除；檸檬酸、草酸等弱酸則相對溫和，適用于對強酸敏感的材質(zhì)或?qū)η逑春蟊砻尜|(zhì)量要求較高的設(shè)備。在化工、電力等行業(yè)的換熱器、反應釜等設(shè)備清洗中經(jīng)常使用。
  • 中性水基清洗液：性質(zhì)溫和，對設(shè)備材質(zhì)的腐蝕性較小，適用于各種金屬和非金屬材質(zhì)的化工設(shè)備。它通常由表面活性劑、緩蝕劑、助洗劑等組成，通過潤濕、滲透、分散等作用去除污垢。在一些對清洗液腐蝕性要求嚴格的電子化工、食品化工等行業(yè)應用較多。

二、有機溶劑清洗液

• • 烴類溶劑：如汽油、煤油、柴油等，對油脂、樹脂等有機污垢有良好的溶解性，清洗效果好。但這類溶劑易燃、易揮發(fā)，使用時需要注意防火防爆安全。常用于化工設(shè)備維修前的油污清洗，以及一些對水敏感的設(shè)備部件清洗。
  • 鹵代烴溶劑：如三氯乙烯、四氯化碳等，具有較強的溶解能力，能有效去除油脂、蠟質(zhì)、污垢等。它們的化學性質(zhì)相對穩(wěn)定，不易燃燒，但毒性較大，使用時必須在通風良好的環(huán)境中進行，并采取相應的防護措施。在一些精密化工設(shè)備、光學儀器設(shè)備的清洗中應用較多。
  • 醇類溶劑：如乙醇、異丙醇等，具有一定的溶解性和揮發(fā)性，能快速干燥，對設(shè)備表面無污染。它們可以與水混合使用，調(diào)節(jié)清洗液的性能。常用于清洗化工設(shè)備中的一些小型零部件，以及對清洗后干燥要求較高的設(shè)備。

三、專用清洗液

• • 金屬加工液清洗劑：針對化工設(shè)備在加工過程中殘留的切削液、磨削液等污垢而設(shè)計。它能有效去除金屬表面的油污、碎屑和添加劑，同時對金屬有一定的緩蝕保護作用。
  • 光學玻璃清洗劑：用于清洗化工設(shè)備中光學玻璃部件，如觀察窗、透鏡等。要求清洗液具有良好的去污能力，同時不能損傷玻璃表面的光學性能，通常為中性或弱堿性，含有特殊的表面活性劑和光亮劑。
  • 電子元器件清洗劑：在電子化工行業(yè)，用于清洗化工設(shè)備中的電子元器件和電路板等。要求清洗液具有良好的絕緣性、低殘留性和快速干燥性，以避免對電子設(shè)備造成損害。